Intel heeft zojuist aangekondigd dat ASML’s High-NA EUV-machine klaar is voor gebruik. Voor het eerst heeft de zogeheten Twinscan EXE:5000 lijnen van 10 nanometer gemaakt op een stukje silicium, dat bewijst dat alle onderdelen tot op zekere hoogte naar behoren werken. Het nieuwe apparaat zal toekomstige productieprocessen mogelijk maken, maar eerst zullen zowel Intel als […]